核心提示：2026深圳国际光刻胶产业技术展览会PCB光刻胶展览会 LCD光刻胶展览会 半导体光刻胶展览会时间：2026年6月10-12日地点：深圳国际会
2026深圳国际光刻胶产业技术展览会
PCB光刻胶展览会 LCD光刻胶展览会 半导体光刻胶展览会
时间：2026年6月10-12日
地点：深圳国际会展中心
█展会背景
光刻胶是电子领域微细图形加工的关键性材料，被誉为半导体材料皇冠上的明珠，在半导体、新型显示、印制电路板等泛半导体领域的生产中具有重要作用。随着全球对半导体技术依赖程度的加深，光刻胶的重要性愈加凸显。目前我国光刻产业的发展面临着诸多挑战。在光刻胶领域，国内高端光刻胶自给率低，研发和生产技术与国际先进水平有差距，产品性能和质量难以满足高端芯片制造需求。湿电子化学品方面，部分高纯度、特殊配方产品依赖进口，供应受限。掩模版的高精度制造技术难度大，高端掩模版原料主要依赖进口，供应受制于人，其快速修复和更新技术有待提升。光刻机更是被国外垄断，高端光刻机如EUV光刻机难以获得，国内光刻机企业在技术水平、制造精度、光源系统等方面与国际先进水平存在较大差距，成为制约我国半导体产业发展的“卡脖子”环节。
为推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，同时加强下游需求应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流。2026深圳国际光刻胶产业技术展览会将围绕集成电路、新型显示、PCB领域高性能光刻胶以及光刻胶专用树脂、光引发剂、颜料等原料技术与设备全方面展示和产学研用技术交流。是国内最主要的光刻胶领域行业盛会，一年一届。大会已成为推动国内高端光刻胶技术创新、加快核心技术突破与产业化应用、加强产学研用深度融合的重要平台，在行业产生了广泛的影响力。
█日程安排：
报到布展：2026年6月8-9日 展出时间: 2026年6月10-12日
█顶级盛会（大会设赞助、协办单位，详情请致电组委会）
品牌展示 高层论坛 行业用户洽谈会 外商采购会 新技术新产品发布会
“搭建国际采购贸易平台、促进企业交流合作、提高参展效果”
————将是我们的目标！
? 汇集最新的销售讯息，结识来自国内和国际的高质量买家群；
? 了解未来的产品需求，获得最新的市场发展讯息；
? 通过行业分工合作以及产业链需求寻求新的商业机会；
? 发布新技术、展示新产品的绝 佳平台，获得市场推广及品牌建设良机，提高行业认知度；
? 参加相关的论坛活动，获悉行业发展趋势、技术创新的最新资讯。
█展品范围：
PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶。PCB（干膜光刻胶、湿膜光刻胶以及光成像阻焊油墨）；LCD（彩色光刻胶、黑色光刻胶、触摸屏光刻胶以及TFT-LCD光刻胶）；半导体（紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶以及X射线光刻胶）等；
光刻材料： SOC、BARC/SiARC、光刻胶、TARC、Top Coating、稀释剂、冲洗液、显影液等；
光刻胶原材料（光引发剂/感光剂、树脂、单体、溶剂、添加剂）等；
光刻胶专用试 剂：稀释剂/去边剂、成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂、显影液和剥离液等；
光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、纳米压印、特种气体、掩膜版与光刻材料与设备等；
设备：合成、纯化、混合、过滤、光刻机、涂胶显影设备以及后续的刻蚀、量测等设备；
█展会优势：
发布年度新品——百余家媒体竞相直播报道，是企业发布年度新品的重要渠道
了解行业趋势——作为行业“风向标”及“晴雨表”，第一时间展现市场动向及趋势
维系重要客户——这是业内人士都不会错过的盛会，也是您会面维系老客户，接待新客户的好机会
参展、参观详情咨询：
咨询热线：021-34513031
联系人:钱先生13162771109
邮 箱：baoliexpo@126.com
http://www.szgyqx.com
PCB光刻胶展览会 LCD光刻胶展览会 半导体光刻胶展览会
时间：2026年6月10-12日
地点：深圳国际会展中心
█展会背景
光刻胶是电子领域微细图形加工的关键性材料，被誉为半导体材料皇冠上的明珠，在半导体、新型显示、印制电路板等泛半导体领域的生产中具有重要作用。随着全球对半导体技术依赖程度的加深，光刻胶的重要性愈加凸显。目前我国光刻产业的发展面临着诸多挑战。在光刻胶领域，国内高端光刻胶自给率低，研发和生产技术与国际先进水平有差距，产品性能和质量难以满足高端芯片制造需求。湿电子化学品方面，部分高纯度、特殊配方产品依赖进口，供应受限。掩模版的高精度制造技术难度大，高端掩模版原料主要依赖进口，供应受制于人，其快速修复和更新技术有待提升。光刻机更是被国外垄断，高端光刻机如EUV光刻机难以获得，国内光刻机企业在技术水平、制造精度、光源系统等方面与国际先进水平存在较大差距，成为制约我国半导体产业发展的“卡脖子”环节。
为推动国内高端光刻胶技术创新，加快核心技术突破与产业化应用，同时加强下游需求应用与科研、产业企业的协同研发、技术交流。2026深圳国际光刻胶产业技术展览会将围绕集成电路、新型显示、PCB领域高性能光刻胶以及光刻胶专用树脂、光引发剂、颜料等原料技术与设备全方面展示和产学研用技术交流。是国内最主要的光刻胶领域行业盛会，一年一届。大会已成为推动国内高端光刻胶技术创新、加快核心技术突破与产业化应用、加强产学研用深度融合的重要平台，在行业产生了广泛的影响力。
█日程安排：
报到布展：2026年6月8-9日 展出时间: 2026年6月10-12日
█顶级盛会（大会设赞助、协办单位，详情请致电组委会）
品牌展示 高层论坛 行业用户洽谈会 外商采购会 新技术新产品发布会
“搭建国际采购贸易平台、促进企业交流合作、提高参展效果”
————将是我们的目标！
? 汇集最新的销售讯息，结识来自国内和国际的高质量买家群；
? 了解未来的产品需求，获得最新的市场发展讯息；
? 通过行业分工合作以及产业链需求寻求新的商业机会；
? 发布新技术、展示新产品的绝 佳平台，获得市场推广及品牌建设良机，提高行业认知度；
? 参加相关的论坛活动，获悉行业发展趋势、技术创新的最新资讯。
█展品范围：
PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶。PCB（干膜光刻胶、湿膜光刻胶以及光成像阻焊油墨）；LCD（彩色光刻胶、黑色光刻胶、触摸屏光刻胶以及TFT-LCD光刻胶）；半导体（紫外光刻胶、深紫外光刻胶、极紫外光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶以及X射线光刻胶）等；
光刻材料： SOC、BARC/SiARC、光刻胶、TARC、Top Coating、稀释剂、冲洗液、显影液等；
光刻胶原材料（光引发剂/感光剂、树脂、单体、溶剂、添加剂）等；
光刻胶专用试 剂：稀释剂/去边剂、成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂、显影液和剥离液等；
光刻技术、光刻胶与湿电子化学品、纳米压印、特种气体、掩膜版与光刻材料与设备等；
设备：合成、纯化、混合、过滤、光刻机、涂胶显影设备以及后续的刻蚀、量测等设备；
█展会优势：
发布年度新品——百余家媒体竞相直播报道，是企业发布年度新品的重要渠道
了解行业趋势——作为行业“风向标”及“晴雨表”，第一时间展现市场动向及趋势
维系重要客户——这是业内人士都不会错过的盛会，也是您会面维系老客户，接待新客户的好机会
参展、参观详情咨询：
咨询热线：021-34513031
联系人:钱先生13162771109
邮 箱：baoliexpo@126.com
http://www.szgyqx.com
